Clear filters
  • M. Włodarska, G. Bąk, B. Mossety-Leszczak, H. Galina, T. Pakula, Dielectric monitoring of curing process for some epoxide-amine thermosets, J. Non-Cryst. Solids 353(47-51), 4371-4375, 2007
     10.1016/j.jnoncrysol.2007.04.050 
  • M. Włodarska, G. Bąk, B. Mossety-Leszczak, H. Galina, T. Pakula, Dielectric monitoring of curing process for some epoxide-amine thermosets., J. Non-Cryst. Solids 353(47-51), S.4371-4375, 2007
  • B. Mossety-Leszczak, H. Galina, M. Włodarska, G. Bąk, Ciekłokrystaliczne żywice epoksydowe z mezogenicznym ugrupowaniem bifenylowym., Przemysł Chemiczny 85/8-9, 956-958, 2006
  • B. Mossety-Leszczak, M. Włodarska, H. Galina, G. Bąk, T. Pakula, Development of Liquid Crystalline Order During Cure of Mesogenic Epoxy Resins, Macromol. Symp. 227(1), 149-160, 2005
     10.1002/masy.200550915 
  • B. Mossety-Leszczak, M. Włodarska, H. Galina, G. Bąk, T. Pakula, Development of liquid crystalline order during cure of mesogenic epoxy resins., Macromol. Symp. 227, 149-160, 2005
  • M. Włodarska, B. Mossety-Leszczak, H. Galina, G. Bąk, T. Pakula, Phase transitions and molecular properties of new divinyl and diepoxy compounds, Liq. Cryst. 31(4), 525-534, 2004
     10.1080/02678290410001648615 
  • B. Mossety-Leszczak, H. Galina, M. Włodarska, Synthesis and curing of new liquid crystalline epoxy monomers, Polimery-w. 48(07/08), 511-519, 2003
     10.14314/POLIMERY.2003.511 
  • M. Włodarska, G. Bąk, W. Bartczak, Ab initio calculation of molecular structure and dipole moment for selected divinyl and diepoxy molecules, pp. 59-67, December 2002
     10.1016/S0166-1280(02)00474-8 
  • M. Włodarska, B. Mossety-Leszczak, L. Okrasa, G. Bąk, H. Galina, J. Ulanski, Dielectric relaxations in new liquid crystalline diepoxy monomer, XIV Conference on Liquid Crystals: Chemistry, Physics, and Applications, 2002
     10.1117/12.472169 
  • M. Włodarska, E. Staryga, A. Walkiewicz-Pietrzykowska, G. Bąk, M. Buczkowska, A. Wrobel, <title>Electrical properties of some plasma polymers obtained by remote microwave plasma chemical vapor deposition</title>, SPIE Proceedings, 1999
     10.1117/12.373689